OTSUKA大塚電子廣州代理,OTSUKA廣州代理,.,OTSUKA大塚電子廣州代理
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特 長
希薄溶液から濃厚溶液まで、幅広い濃度範囲での高速?高精度な粒子徑?粒子徑分布(粒徑?粒徑分布)測定が可能です。 微粒子特有の分散?凝集過程をモニターする機能など、研究?品質管理の幅広い用途で使用可能です。 新開発の測定プローブにより、濃厚溶液での高精度な粒子徑測定に対応しています。 サンプル溫調、超音波洗浄など、必要な機能をすべて內蔵したA3サイズのコンパクト設計です。
測定項目
粒子徑 3 nm ~ 5000nm 1 nm ~ 5000nm (高感度仕様) キュムラント平均粒子徑
ヒストグラム平均粒子徑(D 50 )(高感度仕様) 分布解析 CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法
対応濃度範囲
(標準ラテックス
204nm の場合) 0.001 ~ 10 % 濃厚系プローブ(標準)
0.01 ~ 10 % 希薄系プローブ(オプション)
0.001 ~ 0.01 %
応用分野
色材工業における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。 セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果 半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理 高分子?化學工業におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理 醫薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理 光觸媒(酸化チタン)粒子の分散狀態管理 仕 様
光源 半導體レーザー 検出器 光電子増倍管(フォトンカウンティング方式) サンプル溫調範囲 10 ~ 70℃ 溫調方式 電子式冷卻素子、ヒーター プローブ洗浄方式 超音波洗浄 電源 AC100V ± 10%50/60Hz 300VA 寸法(WDH) 320(W)×507(D)×284(H) 重量 約 22 kg
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